【广州开发区、黄埔区：鼓舞开展光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料】《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路工业高质量开展方法》提出，鼓舞开展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料，支撑整理洗刷设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、堆积设备、封装设备（划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等）、检测设备（测试机、探针台等）以及单晶成长炉、外延成长炉等设备、要害零部件及东西国产化代替。对当年产量初次到达2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的集成电路配备、资料、零部件类企业，经确定，别离给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元、500万元的扶持，同一企业按差额补足方法最高扶持500万元。

  《广州开发区广州市黄埔区促进集成电路工业高质量开展方法》今天印发。其间提出，鼓舞开展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料，支撑整理洗刷设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、堆积设备、封装设备（划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等）、检测设备（测试机、探针台等）以及单晶成长炉、外延成长炉等设备、要害零部件及东西国产化代替。对当年产量初次到达2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的集成电路配备、资料、零部件类企业，经确定，别离给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元、500万元的扶持，同一企业按差额补足方法最高扶持500万元。