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  【广州开发区、黄埔区:鼓舞开展光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料】《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路工业高质量开展方法》提出,鼓舞开展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料,支撑整理洗刷设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、堆积设备、封装设备(划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等)、检测设备(测试机、探针台等)以及单晶成长炉、外延成长炉等设备、要害零部件及东西国产化代替。对当年产量初次到达2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的集成电路配备、资料、零部件类企业,经确定,别离给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元、500万元的扶持,同一企业按差额补足方法最高扶持500万元。

  《广州开发区广州市黄埔区促进集成电路工业高质量开展方法》今天印发。其间提出,鼓舞开展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光资料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制作资料,支撑整理洗刷设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、堆积设备、封装设备(划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等)、检测设备(测试机、探针台等)以及单晶成长炉、外延成长炉等设备、要害零部件及东西国产化代替。对当年产量初次到达2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的集成电路配备、资料、零部件类企业,经确定,别离给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元、500万元的扶持,同一企业按差额补足方法最高扶持500万元。


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